MIDAC FTIR—精准探索含氟电子特气的奥秘

现阶段，我国半导体行业“国产化”浪潮仍在盛行，而含氟特种气体作为半导体行业的上游领域，在中美贸易战争的影响下，国产化趋势也较为明显。

集成电路是信息社会的“根基”，而高纯度含氟电子气体作为极大规模集成电路行业必需的清洗和蚀刻气体，可以在芯片制作过程中保障极大规模集成电路的生成，确保电路能够有效发挥作用。含氟电子气体的细分品类众多，主要包括CF₄、C₂F₆、C₃F₈、C₄F₈、C₄F₆、CHF₃、SF₆、NF₃等传统含氟电子气体，以及COF₂、ClF₃、F₂等新型低GWP含氟气体。

在众多特种气体中，由于含氟电子特气技术壁垒较高、市场需求持续增长、价格稳定，成为众多国内厂商青睐的对象。

往往含氟电子特气中的常量杂质分析，比如O₂、Ar、CO、CO₂、CH₄等，采用高麦气相色谱仪即可完全检出，但其中的HF、SF₆、SO₂等腐蚀性气体杂质，由于含量低、易吸附、腐蚀性强等原因导致很难检出。

为提高检测效率以及数据的完整性，高麦将为您提供MIDAC I系列FTIR，能够在几秒钟内完成杂质痕量检测。 

国内某电子特气企业现场FTIR实操图

图中，我们实时监测的组分包括：C₂F₆ 、C₃F₈、C₄F₈、CF₄、CHF₃、COF₂、SF₆、SiF₄、SiH₄ 

HF谱图

SO₂谱图

 

高麦 成立于1935年,

在中国、美国、日本、韩国等多个国家设有

技术、研发中心，生产、智能工厂、客户运营中心，

逐步形成以北京为总部，

在武汉、杭州，日照，台湾等地分别设立

技术研发和客户运营中心的生态网络，

全方位的为中国乃至全球客户

   打造专属的气体行业解决方案。

 

 

 

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